सिरेमिक टाइल्स, ग्लास, धातु के लिए पुयुआन नई सतत कोटिंग मशीन लाइन

सिरेमिक टाइल्स, ग्लास, धातु के लिए पुयुआन नई सतत कोटिंग मशीन लाइन

विवरण
सिरेमिक टाइल्स, ग्लास, धातु के लिए नई सतत कोटिंग मशीन लाइन एक अत्यधिक विशिष्ट विनिर्माण प्रणाली है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से सब्सट्रेट्स (जैसे ग्लास, प्लास्टिक, धातु, सिरेमिक, सेमीकंडक्टर वेफर इत्यादि) की सतह पर बेहद पतली कार्यात्मक फिल्मों की एक या अधिक परतों को जमा करने के लिए किया जाता है। इसका मूल अत्यधिक निर्वात वातावरण में विभिन्न भौतिक तरीकों के माध्यम से कोटिंग सामग्री को वाष्पीकृत या आयनित करना है, और फिर इसे सब्सट्रेट की सतह पर एक फिल्म में संघनित करना है।
स्थितिः नई
1 साल की वॉरंटी
बिक्री के बाद सेवा प्रदान की गई: फील्ड इंस्टालेशन, कमीशनिंग और प्रशिक्षण, विदेशों में सेवा मशीनरी के लिए इंजीनियर उपलब्ध
प्रमाणीकरण: सीई, ISO9001
सब्सट्रेट: प्लास्टिक, पीसी/पीएमएमए/पीईटी शीट, ग्लास, सिरेमिक, आदि।
वैक्यूम चैम्बर सामग्री: SUS-304 बेहतर स्टेनलेस स्टील
वैक्यूम चैम्बर का आकार: कस्टम - बनाया गया
जमाव सामग्री: टाइटेनियम/एल्यूमीनियम/क्रोम/कॉपर/TiAl/TiN/SS, धातु फिल्में जैसे Al, Cr, SUS, Ni, Sn, Ti और मिश्र धातु आदि।
कोटिंग फिल्म फ़ंक्शन: सजावटी, सुपर हार्ड, घिसाव प्रतिरोधी, संक्षारण रोधी, परावर्तक, परिरक्षण प्रभाव, चालन, गैर चालन, आदि।
उत्पाद वर्गीकरण
सतत कोटिंग लाइन
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर

सिरेमिक टाइल्स, ग्लास, धातु के लिए नई सतत कोटिंग मशीन लाइन एक अत्यधिक विशिष्ट विनिर्माण प्रणाली है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से सब्सट्रेट्स (जैसे ग्लास, प्लास्टिक, धातु, सिरेमिक, सेमीकंडक्टर वेफर इत्यादि) की सतह पर बेहद पतली कार्यात्मक फिल्मों की एक या अधिक परतों को जमा करने के लिए किया जाता है।

 

इसका मूल अत्यधिक निर्वात वातावरण में विभिन्न भौतिक तरीकों के माध्यम से कोटिंग सामग्री को वाष्पीकृत या आयनित करना है, और फिर इसे सब्सट्रेट की सतह पर एक फिल्म में संघनित करना है।

 

अनुप्रयोग:

 

विद्युत घटक सिरेमिक और सर्किट बोर्ड सिरेमिक की सतह पर तांबे, चांदी और अन्य प्रवाहकीय सामग्रियों की वैक्यूम कोटिंग।

 

यह अन्य प्लेट की सतह पर विभिन्न धातु फिल्म परतों जैसे वर्कपीस (ग्लास, ऐक्रेलिक बोर्ड, आदि) के वैक्यूम जमाव के लिए भी उपयुक्त है;

New Continuous Coating Machine Line

 

मुख्य विशेषताएं:


चुंबकीय क्षेत्र प्लाज्मा को सीमित रखता है

यह मैग्नेट्रोन स्पटरिंग की मुख्य विशेषता है। लक्ष्य सतह के पास एक विशिष्ट आकार (आमतौर पर रिंग या रेसट्रैक आकार) का एक मजबूत चुंबकीय क्षेत्र लगाने से, इलेक्ट्रॉनों को सर्पिल गति बनाने के लिए लक्ष्य सतह के पास सीमित कर दिया जाता है, जिससे कार्यशील गैस (आमतौर पर आर्गन) परमाणुओं के साथ इलेक्ट्रॉनों के टकराव और आयनीकरण की संभावना काफी बढ़ जाती है।


उच्च आयनीकरण दर और उच्च जमाव दर

चुंबकीय क्षेत्र कारावास से प्लाज्मा घनत्व और आयनीकरण दर काफी बढ़ जाती है, जिससे स्पटरिंग प्रक्रिया अधिक कुशल हो जाती है।

इसका मतलब यह है कि अपेक्षाकृत कम गैस दबाव और कम स्पटरिंग वोल्टेज/शक्ति पर, पारंपरिक डीसी स्पटरिंग की तुलना में बहुत अधिक स्पटरिंग और जमाव दर प्राप्त की जा सकती है।

 

कम तापमान वाली प्रक्रिया

चूँकि अधिकांश ऊर्जा का उपयोग गैस को आयनित करने और लक्ष्य परमाणुओं को स्पटर करने के लिए किया जाता है, अपेक्षाकृत कम गर्मी सब्सट्रेट में स्थानांतरित होती है।

 

अच्छी फिल्म गुणवत्ता

अच्छा घनत्व, मजबूत आसंजन, उच्च शुद्धता और अच्छी एकरूपता।

 

सामग्री अनुकूलनशीलता की विस्तृत श्रृंखला

 

अच्छी प्रक्रिया नियंत्रणीयता


मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग उत्पादन लाइन उच्च जमाव दर, कम तापमान प्रक्रिया, उत्कृष्ट फिल्म गुणवत्ता (कॉम्पैक्ट, मजबूत आसंजन), व्यापक सामग्री अनुकूलन क्षमता, अच्छी एकरूपता और नियंत्रणीयता जैसी अपनी मुख्य विशेषताओं और फायदों के कारण आधुनिक उद्योग में कार्यात्मक पतली फिल्में (जैसे ऑप्टिकल फिल्में, प्रवाहकीय फिल्में, घिसाव प्रतिरोधी हार्ड फिल्में, सजावटी फिल्में, विरोधी - संक्षारण फिल्में, चुंबकीय फिल्में, अर्धचालक फिल्में इत्यादि) तैयार करने के लिए मुख्यधारा प्रौद्योगिकियों में से एक बन गई है। माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, सौर सेल, टूल कोटिंग्स, ऑटोमोटिव पार्ट्स, पैकेजिंग, सजावट, ऑप्टिकल डिवाइस और अन्य क्षेत्रों में इसका बेहद व्यापक अनुप्रयोग है।

 

 

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